Marmara Üniversitesi Açık Arşiv Sistemi

Substrate temperature influence on the properties of GaN thin films grown by hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition

Bu öğenin dosyaları

Dosyalar Boyut Biçim Göster

Bu öğe ile ilişkili dosya yok.

Bu öğe aşağıdaki koleksiyon(lar)da görünmektedir.

Açık Arşiv'de Ara


Göz at

Hesabım